Die Wafer-Produktion für die Halbleiterindustrie ist ein hartes Geschäft. Daher hat EVT nun eine Partikelinspektion mit der EyeVision Software realisiert. Partikel sind die bekanntesten Defekte von Wafern. Beim Transport, beim Verarbeiten oder auch in den Anlagen selbst können sich Partikel wie z.B. Staub oder Materialabrieb auf dem Wafer anlagern und dort zu einer unerwünschten Abdeckung führen.
Dadurch wird die Verarbeitung im betroffenen Bereich beeinflusst. Die Partikel können dort die Abscheidung oder das Ätzen von Schichten verhindern. Dies kann zu Fehlfunktionen wie z.B. Kurzschlüssen oder fehlenden elektrischen Verbindungen zwischen Leiterbahnen führen. Der Partikelinspektor von EVT analysiert die Oberfläche der Wafer auf Staub und sonstige Partikel. Das Messprinzip basiert auf einem Laserstrahl.
Der Strahl wird über den Wafer geführt. Dieser Wafer wirft Streulicht zurück. Und dieses Streulicht kann mittels Photodioden in ein elektrisches Signal umgewandelt werden. Das Signal wird dann von einem Prozessor mit bereits zuvor abgespeicherten Referenzwerten verglichen. Die EyeVision Software meldet jegliche Abweichungen und kann so eine Bewertung der Wafer auf Gut oder Schlecht durchführen. Die EyeVision Software ist dabei einfach zu bedienen und der Partikelinspektor kann ohne weiteres in der grafischen Benutzeroberfläche konfiguriert werden. kk